MCVD-Labor zur Herstellung von Preformen

Die modifizierte chemische Gasphasenabscheidung (MCVD - modified chemical vapour deposition) ist ein sehr vielseitiges Verfahren zur Herstellung von Glasfaser-Preformen. Als reiner Gasphasenprozess weisen die hergestellten optischen Fasern eine hohe intrinsische Reinheit auf, was zu extrem niedrigen optischen Verlusten führt. Der Prozess verwendet flüchtige Vorstufen der glasbildenden Chemikalien wie SiCl₄, GeCl₄ und POCl₃, die durch ein hochwertiges Quarzglas-Substratrohr fließen, wo die Reaktion über einen traversierenden H₂/O₂-Brenner initiiert wird. Die gebildeten Glaspartikel setzen sich aufgrund der Thermophorese, die durch den anhaltenden Temperaturgradienten induziert werden, an der Innenseite des Glasrohrs ab. Eine geeignete Prozessführung ermöglicht die Abscheidung hochpräziser und komplexer Brechungsindexprofile.

Für die Herstellung von aktiv dotierten Glasfasern verfügt die MCVD-Anlage bei HITec über ein Chelat-Dotiersystem zur Verdampfung von Metall- und Seltenerdverbindungen mit niedrigem Dampfdruck. Diese Technik ermöglicht eine hohe Reproduzierbarkeit der Prozessführung und eine präzise Kontrolle von aktiv dotierten optischen Fasern. Darüber hinaus ist die MCVD-Anlage am HITec mit einem System für in situ Lösungsdotierung (SD - solution doping) ausgestattet, das den Aus- und Einbau des Prozessrohrs aus der MCVD-Anlage vermeidet, wie es für den Standardprozess der aktiven Faserherstellung erforderlich ist.

Außerdem verfügt das HITec-Labor über einen Ätzturm zum Reinigen/Ätzen von Glaswaren mit HF (aq.).